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【CN110156338A】一种玻璃微蚀刻方法【专利】
作者:LETOU   发布时间:2020-06-09 20:29

  【CN110156338A】一种玻璃微蚀刻方法【专利】_化学_自然科学_专业资料。( 19 )中华人民 共和国国家知识产权局 ( 12 )发明专利申请 (21)申请号 0 .7 (22)申请日 2019 .04 .17 (71)申请人 蚌埠国显科技有限公司

  ( 19 )中华人民 共和国国家知识产权局 ( 12 )发明专利申请 (21)申请号 0 .7 (22)申请日 2019 .04 .17 (71)申请人 蚌埠国显科技有限公司 地址 233000 安徽省蚌埠市黄山大道8009 号 (72)发明人 杨金发 (74)专利代理机构 合肥市长远专利代理事务所 (普通合伙) 34119 代理人 段晓微 (51)Int .Cl . C03C 15/00(2006 .01) (10)申请公布号 CN 110156338 A (43)申请公布日 2019.08.23 ( 54 )发明 名称 一种玻璃微蚀刻方法 ( 57 )摘要 本发明公开了一 种玻璃微蚀刻方法 ,包括 : 在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层,在铬层表 面均匀涂覆光刻胶形成胶层后得到覆膜玻璃;将 覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃;将预蚀刻 玻璃投入蚀刻机中 ,采用蚀刻液进行蚀刻减薄; 其中 ,所述蚀刻液的 原料按 质量百分比 包括 : H2SO4 30-40%、HF 1 .1-2%、HCl 0 .1-0 .5%、 HNO3 0 .1-1%、草酸0 .2-1%、脂肪醇聚氧乙烯醚 0 .03-0 .5%,余量为去离子水。本发明提出的玻 璃微蚀刻方法 ,其过程简单 ,蚀刻良 率高 ,可实现 量产。 权利要求书1页 说明书5页 CN 110156338 A CN 110156338 A 权利要求书 1/1 页 1 .一种玻璃微蚀刻方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层,在铬层表面均匀涂覆光刻胶形成胶层后得 到覆膜玻璃; S2、将覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃; S3、将预蚀刻玻璃投入蚀刻机中 ,采 用蚀刻液进行蚀刻减薄 ;其中 ,所述蚀刻液的 原料 按质量百分比包括:H2SO4 30-40%、HF 1 .1-2%、HCl 0 .1-0 .5%、HNO3 0 .1-1%、草酸0 .21%、脂肪醇聚氧乙烯醚0 .03-0 .5%,余量为去离子水。 2 .根据权利要求1所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述玻璃为尺寸为550mm ×650mm×0 .33mm的钠钙玻璃。 3 .根据权利要求1或2所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,在玻璃表面均匀涂覆 金属铬之前,还包括将玻璃表面进行超声波清洗。 4 .根据权利要求1-3中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述胶层的 厚度为2-4μm。 5 .根据权利要求1-4中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述光刻胶 的 原料按重量份包括 :酚醛树脂35-47份 、改 性丙烯酸羟乙 酯8-13份 、双丙酮丙烯酰胺3-7 份、2-苯氧基乙基丙烯酸酯2-11份、光引发剂907 1-2份、光引发剂ITX 0 .2-0 .6份、硫酸钡 2-11份、水溶性石墨烯3-9份、溶剂25-40份、助剂0 .2-1 .3份。 6 .根据权利要求5所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,所述改性丙烯酸羟乙酯按照以下 工艺进行 制备 :将丙烯酸羟乙 酯和对羟基苯甲醚加入反应装置中 ,在氮气的保护下升温至 65-75℃,加入三苯基膦,然后加入苯酐,升温至80-85℃,保温反应至酸值稳定后降温出料, 得到物料A ;将正丁醇 加入反应装置中 ,在氮气的 保 护下升温至70-85℃ ,加入物料A、3-羟 基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯、偶氮二异丁腈和链转移剂,搅拌反应3-4 .5h,反应结束后调 节温度为105-110℃,加入阻聚剂、催化剂后搅拌20-35min,加入甲基丙烯酸缩水甘油酯,保 温反应100-160min,降温至80-90℃,脱除溶剂,然后降温至60-70℃,加入N ,N-二甲基乙醇 胺搅拌20-35min得到所述改性丙烯酸羟乙酯。 7 .根据权利要求6所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在改性丙烯酸羟乙酯的制备过程 中,丙烯酸羟乙酯、苯酐的摩尔比为1:1 .5-2;物料A、3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯的重 量比为5-15:2-4;所述催化剂为四丁基溴化铵;所述阻聚剂为4-甲氧基苯酚;所述链转移剂 为正十二硫醇。 8 .根据权利要求1-7中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S2中,还包括将曝 光显影后的覆膜玻璃在150-180℃下烘烤30-50min。 9 .根据权利要求1-8中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S3中,蚀刻的温度 为30-33℃,蚀刻的时间为55-65s。 10 .根据权利要求1-9中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S3中,所述蚀刻液 的原料按质量百分比包括:H2SO4 39%、HF 1 .5%、HCl 0 .4%、HNO30 .7%、草酸0 .8%、脂肪 醇聚氧乙烯醚0 .08%,余量为去离子水。 2 CN 110156338 A 说明书 1/5 页 一种玻璃微蚀刻方法 技术领域 [0001] 本发明涉及玻璃技术领域,尤其涉及一种玻璃微蚀刻方法。 背景技术 [0002] 随着5G时代的到来,中高端手机使用玻璃作为后盖板已成为趋势,而玻璃盖板表 面通过蚀刻的方式加工出线宽、线距及深度的玻璃微蚀刻工艺技术急需突破。现有的光刻 胶、抗酸油墨等保护薄膜材料在玻璃蚀刻过程中会出现部分脱落现象 ,从而出现线宽变宽 , 边缘毛 刺严重 ,表面蚀刻不均、凸点、凹点、划伤等不良 明显的现象 ,同时被保 护位置被腐 蚀,导致深度不足,使蚀刻后的玻璃良率低,无法量产。 发明内容 [0003] 基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种玻璃微蚀刻方法,其过程简单, 蚀刻良率高,可实现量产。 [0004] 本发明提出的一种玻璃微蚀刻方法,包括以下步骤: [0005] S1、在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层,在铬层表面均匀涂覆光刻胶形成胶层 后得到覆膜玻璃; [0006] S2、将覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃; [0007] S3、将预蚀刻玻璃


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